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应用案例3:真空镀膜

发布时间:2021-01-26      点击次数:547

薄膜沉积技术多种多样,如图1所示,总体来说可以分为渗入法和沉积法。前者属于高温工艺,其工艺兼容性有限,通常作为半导体的前处理和结构件的后处理手段;后者一般为常温或者低温沉积工艺,应用广泛。

 

 

1:典型的薄膜沉积工艺

 

基于青岛芯笙微纳电子科技有限公司MFC-C系列高精度质量流量控制器,基于微机电技术进行制造,流道大、压损小、抗污染能力强,且长期稳定性好,非常适合薄膜沉积工艺中的气相沉积、高温扩散,以及真空镀膜领域。

 

2:真空镀膜设备

 

 

产品推荐:

   青岛芯笙MFC-C系列质量流量控制器(Mass Flow Controller)是一款智能化、高精度的气体质量流量控制器产品,该产品配备有进口电磁比例阀、316L 不锈钢气路座、高精度微机电流量芯片等,具有精度高、响应速度快、稳定性好等特点。在输出方面,可选择:4-20mA 和 1-5V 模拟信号,以及 RS485 等数字通信方式 此系列产品的量程从5SCCM到10SLM内可选典型精度为±1.0%F.S.,年漂移量≤1%FS

 

 

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